該設備是一款小(xiǎo)型高(gāo)真空(kōng)磁控濺射鍍膜儀，主要特點是設備體積小(xiǎo)，結構簡 單緊湊易于操作(zuò)，對(duì)實驗室供電要求低(dī)；該系列設備主要部件采用(yòng)進口或者國内 最優的配置，從(cóng)而提高(gāo)設備的穩定性；另外(wài)自(zì)主開(kāi)發的智能(néng)操作(zuò)系統在設備的運 行重複性及安全性方面得到(dào)更好(hǎo)地保障。
該設備标配 2 隻Φ2 英寸永磁靶，直流脈沖濺射電源(用(yòng)于濺射金(jīn)屬導電材料)， 全自(zì)動匹配射頻濺射電源 (用(yòng)于濺射絕緣材料)  ，主要用(yòng)來(lái)開(kāi)發納米級單層及多  層的金(jīn)屬導電膜、半導體膜以及絕緣膜等。

設備主要配置表
 

真空(kōng)腔室	1Cr18Ni9Ti 優質不鏽鋼材質，氩弧焊接，上(shàng)開(kāi)蓋和(hé)前開(kāi)門(mén)結構
真空(kōng)系統	機械泵+分子泵( 國産或進口可選)  ，  極限真空(kōng)優于 8*10-5 Pa(設 備空(kōng)載抽真空(kōng) 24h )  ，大(dà)氣~8*10-4 Pa≦30min；采用(yòng)電阻電離一體 化真空(kōng)規管讀取真空(kōng)度；閥門(mén)采用(yòng)電磁驅動擋闆閥和(hé)手動限流閥； 充氣系統标配 10sccm/50sccm 質量流量計(jì)各 1 套
濺射系統	Ф2 英寸永磁靶 2 支 (含靶擋闆)  ，可升級爲 3 支，兼容直流和(hé)射 頻，可以濺射磁性材料的靶材；直流脈沖濺射電源，全自(zì)動匹配射 頻電源可任選；标配冷卻水(shuǐ)機系統
基片台	Ф100mm，高(gāo)度：60 ~ 120mm 可調，旋轉：0-20r/min 可調， 可加熱至 300℃，可選配偏壓清洗功能(néng)
膜厚監控儀	可選配進口或國産單水(shuǐ)冷探頭膜厚儀
控制系統	PLC+觸摸屏智能(néng)控制系統，具備漏氣自(zì)檢與提示、通訊故障，實現(xiàn) 一鍵抽停真空(kōng)