詳細介紹

産品介紹

我公司研發生産的CVD系統集真空(kōng)管式爐，多通道(dào)氣路系統和(hé)真空(kōng)系統組成,可根據用(yòng)戶需要設計(jì)生産，各款管式爐，氣路系統和(hé)真空(kōng)機組可多種方式組合，真空(kōng)泵、閥均采用(yòng)進口産品，性能(néng)可靠。控制電路選用(yòng)模糊PID程控技術，具有控溫精度高(gāo)，溫沖幅度小(xiǎo)，性能(néng)可靠，簡單易操作(zuò)等特點。CVD生長系統适用(yòng)于CVD工(gōng)藝，如碳化矽鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。

産品特點

1.該設備生長溫度更低(dī)
2.使用(yòng)滑軌爐實現(xiàn)快(kuài)速升溫和(hé)降溫，沉積速率快(kuài)
3.設備輝光均勻等效，均勻生長，成膜質量好(hǎo)
4.支持外(wài)部真空(kōng)規和(hé)壓力變送器
5.支持智能(néng)進氣，根據需要設定不同的溫度，自(zì)動進氣，進氣定時(shí)間到(dào)後自(zì)動停止進氣
6.支持雲端數據存儲，随時(shí)查看(kàn)數據
7.支持爐膛移動速度調節
8.支持射頻電源根據外(wài)部工(gōng)況條件自(zì)動啓動停止
9.支持壓力恒定，壓力可以設定
10.支持超壓保護，最大(dà)壓力值可以設定，超過後系統自(zì)動進入保護狀态


 

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