詳細介紹

産品介紹

BTE-PECVD是我公司研發的一款單溫區(qū)的PECVD管式爐系統，它是由射頻電源系統，加熱系統、多通道(dào)質子混氣系統和(hé)真空(kōng)系統組成。此款PECVD系統對(duì)于生長納米線、石墨烯或SiC薄膜是一個很(hěn)好(hǎo)的實驗幫手。

産品特點

1.該設備生長溫度更低(dī)
2.使用(yòng)滑軌爐實現(xiàn)快(kuài)速升溫和(hé)降溫，沉積速率快(kuài)
3.設備輝光均勻等效，均勻生長，成膜質量好(hǎo)
4.支持外(wài)部真空(kōng)規和(hé)壓力變送器
5.支持智能(néng)進氣，根據需要設定不同的溫度，自(zì)動進氣，進氣定時(shí)間到(dào)後自(zì)動停止進氣
6.支持雲端數據存儲，随時(shí)查看(kàn)數據
7.支持爐膛移動速度調節
8.支持射頻電源根據外(wài)部工(gōng)況條件自(zì)動啓動停止
9.支持壓力恒定，壓力可以設定
10.支持超壓保護，最大(dà)壓力值可以設定，超過後系統自(zì)動進入保護狀态
 

設備參數

 

型号	最高(gāo)溫度℃	爐膛尺寸mm	整機功率KW	射頻電源	流量計(jì)	流量計(jì)
BTE-PECVD1200-Ⅰ	1200	80*2000	4	射頻電源：300W	質子流量：3路	真空(kōng)系統：TRP-12,3l/s真空(kōng)測量：0.01Pa-200Kpa 系統真空(kōng)度：5Pa
BTE-PECVD1200-Ⅱ	1200	80*2000	4		質子流量：3路
BTE-PECVD1200-Ⅲ	1200	80*2000	6	射頻電源：500W	質子流量：4路

您可能(néng)還想要……