詳細介紹

原子層沉積是基于表面控制的薄膜沉積技術。在鍍膜過程中，兩種或更多的化學氣相前驅體依次在基底表面發生化學反應從(cóng)而産生固态的薄膜。在反應腔内有惰性載氣穿過；前驅體通過極短的脈沖注入到(dào)這(zhè)個惰性載氣中。 惰性載氣攜帶着前驅體脈沖作(zuò)爲一種有序“波”依次通過反應腔，真空(kōng)泵管路，過濾系統，并最終通過真空(kōng)泵。
ALD前驅
可用(yòng)原子層沉積的最常用(yòng)的材料包括（選擇）：
氧化物: Al2O3, CaO, CuO, Er2O3, Ga2O3, HfO2, La2O3, MgO, Nb2O5, Sc2O3, SiO2, Ta2O5, TiO2, VXOY, Y2O3, Yb2O3, ZnO, ZrO2, etc.
氮化物: AlN, GaN, TaNX, TiAlN, TiNX, etc.
碳化物: TaC, TiC, etc.
金(jīn)屬: Ir, Pd, Pt, Ru, etc.
硫化物: ZnS, SrS, etc.
氟化物: CaF2, LaF3, MgF2, SrF2, etc.
生物材料: Ca10(PO4)6(OH)2 (hydroxyapatite)
聚合物: PMDA–DAH, PMDA–ODA, etc.
摻雜(zá)納米塗層和(hé)複合結構：ALD 可以使用(yòng)大(dà)量不同的材料組合。

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